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一期控制系統(tǒng)清單 | ||||
車間 | 序號(hào) | 控制系統(tǒng)名稱 | CPU/控制器型號(hào) | 廠家 |
配料 | 1 | A組石灰爐控制系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 |
2 | B組石灰爐控制系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 | |
3 | C組石灰爐控制系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 | |
4 | 化灰機(jī)控制系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 | |
5 | 原料磨控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
6 | 破碎控制系統(tǒng) | 1756-L61 | AB | |
溶出 | 7 | A組管道化控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell |
8 | B組管道化控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
9 | C組管道化控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
10 | D組管道化控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
沉降 | 11 | 葉濾控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell |
12 | 沉降控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
13 | 絮凝劑控制系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 | |
14 | 外排泵控制系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 | |
分解 | 15 | 40米沉降系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 |
16 | A組分解槽控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
17 | B組分解槽控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
18 | A組種分槽攪拌控制系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 | |
19 | B組種分槽攪拌控制系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 | |
? | 9組種分控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
20 | 種分循環(huán)水控制系統(tǒng) | S7-300 | 西門子 | |
蒸發(fā) | 21 | A組蒸發(fā)器控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell |
22 | B組蒸發(fā)器控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
焙燒 | 23 | 2#沸騰爐控制系統(tǒng)1350 | C200 | HoneyWell |
24 | 4#焙燒爐控制系統(tǒng)1350 | C200 | HoneyWell | |
25 | 5#平盤過濾控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
26 | 3#焙燒爐控制系統(tǒng)1850 | C200 | HoneyWell | |
27 | 3#、4#平盤過濾控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
28 | 換熱器 CPU224XP-CN | S7-200 | 西門子 | |
29 | 1#沸騰爐控制系統(tǒng)1850 | C200 | HoneyWell | |
30 | 1#2#平盤過濾控制系統(tǒng) | A2ASH(S1) | 三菱 | |
31 | 3、4#熱水加熱器 | S7-200 224XP | 西門子 |
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氧化鋁廠老系統(tǒng)控制系統(tǒng)清單 | ||||
車間 | 序號(hào) | 控制系統(tǒng)名稱 | CPU/控制器型號(hào) | 廠家 |
原料 | 1 | 3#石灰爐控制系統(tǒng) | A2USHCPU-S1 | 三菱 |
2 | 4#石灰爐控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
3 | 5#石灰爐控制系統(tǒng) | A2ASHCPU-S1 | 三菱 | |
4 | 6#石灰爐控制系統(tǒng) | A2USHCPU-S1 | 三菱 | |
5 | 破碎東擴(kuò)控制系統(tǒng) | Q12H | 三菱 | |
6 | 原礦漿配料(格子磨)控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
7 | 生料漿配料控制系統(tǒng) | A1ASCPU | 三菱 | |
8 | 后加礦 | Q12PHCPU | 三菱 | |
沉降 | 9 | 三沉降控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell |
10 | 三沉降老粉狀絮凝劑控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
11 | 三沉降新粉狀絮凝劑1/2系統(tǒng) | Q12HCPU | 三菱 | |
12 | 三沉降液體絮凝劑 | S7-300 CP314 | 西門子 | |
13 | 一沉降液體絮凝劑控制系統(tǒng) | S7-300 CP314 | 西門子 | |
14 | 一沉降粉狀絮凝劑控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
15 | 二沉降(主體)流程控制系統(tǒng) | Q12HCPU | 三菱 | |
16 | 二沉降液體絮凝劑控制系統(tǒng) | S7-300 CP314 | 西門子 | |
17 | 二沉降粉狀絮凝劑控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
熟料 | 18 | 1#煤磨控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 |
19 | 2#煤磨控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
20 | 3#煤磨控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
21 | 4#煤磨控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
22 | 煤粉磨控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
23 | 油隔泵控制系統(tǒng) | ?A2USHCPU-S1 | 三菱 | |
24 | 1#熟料窯控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
25 | 2#熟料窯控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
26 | 3#熟料窯控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
27 | 4#熟料窯控制系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
28 | 熟料窯窯尾畫面 | Q02HCPU | 三菱 | |
29 | 1#~2#電收塵系統(tǒng) | Nais fp3 | 東芝 | |
30 | 3#電收塵系統(tǒng) | S7-200 226CN | 西門子 | |
31 | 4#電收塵系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
32 | 脫硅監(jiān)控系統(tǒng) | A2USCPU-S1 | 三菱 | |
33 | 分離絮凝劑自動(dòng)配料系統(tǒng) | S7-300 314 | 西門子 | |
34 | 赤泥外排計(jì)算機(jī)系統(tǒng) | S7-300 314 | 西門子 | |
35 | 立式葉濾機(jī)控制系統(tǒng) | S7 315-2DP | 西門子 | |
36 | 葉濾機(jī)監(jiān)測系統(tǒng) | A2USCPU-S1 | 三菱 | |
37 | 沉降絮凝劑自動(dòng)配料系統(tǒng) | Q06PHCPU | 三菱 | |
38 | 沉降熱水加熱器控制系統(tǒng)3#4# | S7-200,CPU224 | 西門子 | |
分解 | 39 | 砂狀東段槽上監(jiān)控系統(tǒng) | A2USH-S1 | 三菱 |
40 | 砂狀東段槽下監(jiān)控系統(tǒng) | A2USH-S1 | 三菱 | |
41 | 種分槽監(jiān)控系統(tǒng) | A2AS(S1) | 三菱 | |
42 | ⅢⅤⅥ組機(jī)械攪拌監(jiān)控系統(tǒng) | A2AScpu-S1 | 三菱 | |
43 | Ⅳ組機(jī)械攪拌監(jiān)控系統(tǒng) | A2AScpu-S1 | 三菱 | |
44 | Ⅷ組工藝監(jiān)控系統(tǒng) | A2AScpu-S1 | 三菱 | |
45 | Ⅷ組攪拌監(jiān)控系統(tǒng) | A2AS(S1) | 三菱 | |
46 | 細(xì)氫鋁監(jiān)控系統(tǒng) | Q02HCPU | 三菱 | |
蒸發(fā) | 47 | 四蒸發(fā)控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell |
48 | 五蒸發(fā)控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
49 | 六蒸發(fā)控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
50 | 七蒸發(fā)控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
51 | 大蒸發(fā)監(jiān)控系統(tǒng) | A2AScpu-S1 | 三菱 | |
52 | 大蒸發(fā)回水監(jiān)控系統(tǒng) | A2AScpu-S1 | 三菱 | |
溶出 | 53 | 一管主控室控制系統(tǒng) | logix5555(1756) | AB |
54 | 一管后增濃 | S7-300(315-2DP) | 西門子 | |
55 | 一管熔鹽爐電加熱 | logix5555(1756) | AB | |
56 | 一管熔鹽爐控制系統(tǒng) | logix5555(1756) | AB | |
57 | 二管主控系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
58 | 三管主控系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
59 | 二、三管后增濃 | S7-300(315-2DP) | 西門子 | |
60 | 二管電加熱 | logix5550(1756-L1) | AB | |
61 | 二管熔鹽爐控制系統(tǒng) | logix5550(1756-L1) | AB | |
62 | 三管熔鹽爐控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
63 | 二管隔膜泵控制系統(tǒng) | 1756-L55M23 | AB | |
64 | 四管主控室控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
65 | 四管熔鹽爐控制系統(tǒng) | C200 | HoneyWell | |
66 | 四管后增濃 | S7-300(CPU 315-2DP) | 西門子 |
一期需保留的現(xiàn)場控制室 | ||
1 | 化灰機(jī)控制室 | 需現(xiàn)場控制化灰機(jī) |
2 | 原料磨控制室 | 需現(xiàn)場控制磨機(jī) |
3 | 破碎控制室 | 需現(xiàn)場控制破碎機(jī) |
4 | 種分循環(huán)水控制室 | 需現(xiàn)場控制冷卻塔、水泵等 |
一期取消的現(xiàn)場控制室 | |||
車間 | 序號(hào) | 控制室 | |
配料 | 1 | 石灰爐控制室 | 整合到生產(chǎn)調(diào)度指揮中心 |
溶出 | 2 | 管道化控制室 | |
沉降 | 3 | 葉濾控制室 | |
4 | 沉降控制室 | ||
5 | 新系統(tǒng)外排控制室 | ||
分解 | 6 | 40米沉降控制室 | |
7 | 種分控制室 | ||
? | 9組種分控制室 | ||
蒸發(fā) | 8 | 蒸發(fā)控制室 | |
焙燒 | 9 | 2#爐控制室 | |
10 | 5#平盤控制室 | ||
11 | 3#爐控制室 | ||
12 | 3#4#平盤控制室 | ||
13 | 1#爐控制室 | ||
14 | 1#2#平盤控制室 |