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本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用光致發(fā)光測(cè)試系統(tǒng)對(duì)表面經(jīng)過(guò)處理的磷鎵砷(GaAs1-xPx)晶片組分進(jìn)行測(cè)試的方法。