本文件規(guī)定了正壓懸浮區(qū)熔單晶硅爐的產品標記和主要參數(shù)、技術要求、試驗方法、檢驗規(guī)則和標志、包裝、運輸、儲存。適用于以高純多晶硅做原料，采用懸浮區(qū)熔法進行半導體級單晶硅生長的單晶硅爐。