本標準規(guī)定了電子薄膜制備用高純金屬濺射靶材的純度等級的定義方法、雜質含量分析方法、抽樣規(guī)則及靶材純度等級報告標準規(guī)范等內容。
本標準適用于電子薄膜用各類高純金屬濺射靶材。其他對純度有較高要求的靶材純度等級、雜質含量分析及報告規(guī)范也可參照使用。