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磁控濺射設(shè)備通用技術(shù)條件

標(biāo) 準(zhǔn) 號: SJ/T 10478-1994
替代情況:
發(fā)布單位: 電子工業(yè)部
起草單位: 電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究
發(fā)布日期: 1994-04-11
實(shí)施日期: 1994-10-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2024年08月20日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)適用于磁控濺射設(shè)備(以下簡稱“設(shè)備”)。


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